| 名称 | 超大规模集成电路工艺学 | |
| 索引号 | 033895 | |
| 分类号 | (| 08 环境公报) |
|
| 作者 | 史西蒙 S.M.、史常忻、 | |
| 出版社 | 上海 : 上海交通大学出版社, 1987.10 | |
| ISBN | 7-313-00046-4 | |
| 页数 | 456页 ; 26cm$ | |
| 价格 | CNY4.80 | |
| 标签 | ||
| 简介 | ||
| 注解 | 包括晶体生长、电子制备, 外延、介质和多晶硅淀积、氧化、扩散、离子注入、光刻、干法刻蚀、金属化、装配和管壳、成品率和可靠性・ | |
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| 名称 | 超大规模集成电路工艺学 | |
| 索引号 | 033895 | |
| 分类号 | (| 08 环境公报) |
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| 作者 | 史西蒙 S.M.、史常忻、 | |
| 出版社 | 上海 : 上海交通大学出版社, 1987.10 | |
| ISBN | 7-313-00046-4 | |
| 页数 | 456页 ; 26cm$ | |
| 价格 | CNY4.80 | |
| 标签 | ||
| 简介 | ||
| 注解 | 包括晶体生长、电子制备, 外延、介质和多晶硅淀积、氧化、扩散、离子注入、光刻、干法刻蚀、金属化、装配和管壳、成品率和可靠性・ | |
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