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名称 | 离子束沉积薄膜技术及应用 |
| 索引号 | 600878 | |
| 分类号 | (| 08 环境公报) |
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| 作者 | 刘金声、 | |
| 出版社 | 北京 : 国防工业出版社, 2003 | |
| ISBN | 7-118-02882-7 | |
| 页数 | 434页 : 图 ; 21cm | |
| 价格 | 精装 | |
| 标签 | 专业、 | |
| 简介 | ||
| 注解 | 有书目 (第 [431] -432页) 本书系统地介绍先进离子束沉积(IBD)薄膜技术及应用・全书共五章・包括离子束沉积薄膜技术基础;离子束溅射沉积薄膜技术研究及应用;双离子束制取薄膜和改性方法;离子束反应溅射沉积薄膜方法;离子束辅助轰击生长薄膜效应及离子束辅助沉积薄膜方法・本书取材新颖,理论联系实际,书中提供了丰富的研究方法及范例,对普及和推广离子束沉积薄膜技术具有重要指导意义・ 读者对象:近代薄膜科学技术与材料研究人员和工艺师,理工科大专院校有关专业师生 | |
书籍简介
《离子束沉积薄膜技术及应用》由国防工业出版社出版。











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