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名称 | 硅及其氧化物的电化学 : 表面反应、结构和微加工 |
| 索引号 | O613.72/20051 | |
| 分类号 | O613.72 O613.72(硅Si) O613.7(第Ⅳ族非金属元素(碳和硅)及其化合物) O613(非金属元素及其化合物) O61(无机化学) O6(化学) O(数理科学和化学) |
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| 作者 | 章小鸽、张俊喜、张大全、徐群杰、 | |
| 出版社 | 北京 : 化学工业出版社, 2004 | |
| ISBN | 7-5025-5698-2 | |
| 页数 | 443页 : 图 ; 24cm | |
| 价格 | CNY68.00 | |
| 标签 | 硅及其氧化物的电化学、 | |
| 简介 | ||
| 注解 | 有书目 (第398-443页) 本书详细地阐述了硅Đ□电解液界面、阳极氧化、浸刻、光效应、阴极反应及光电化学等内容,对研究硅表面现象的科研人员和开发以硅为基的电子器件的工程师具有重大的实用价值和理论指导・ 相关领域科研人员、工程师,高校学生 | |
书籍简介
本书系统地介绍了关于硅及其氧化物的电化学从理论到实践的全部知识,包括对硅/电解液界面,阳极氧化,刻蚀,光效应,阴极特性及氧化-还原对,多孔硅和光电化学的详细阐述。对研究硅表面现象的科研人员和开发以硅为基的电子器件的工程师具有重大的实用意义。硅的电化学在硅技术与工艺和电化学系统中很重要,本书第一次全面介绍了硅在水溶液中的电化学知识。因此本书适合于硅及其氧化物领域的科研人员和工程师阅读,也可供相关专业学生参考。











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