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名称 | 画法几何与阴影透视 : 从绘图到设计 |
| 索引号 | O185.2/20091 | |
| 分类号 | O185.2 O185.2(画法几何-几何) O185(射影几何-投影几何-画法几何-几何) O18(几何-拓扑) O1(数学) O(数理科学和化学) |
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| 作者 | 钟予、中央美术学院、 | |
| 出版社 | 北京 : 中国建筑工业出版社, 2008 | |
| ISBN | 978-7-112-10402-4 | |
| 页数 | 120页 : 图 ; 29cm | |
| 价格 | CNY26.00 | |
| 标签 | 平面设计、 | |
| 简介 | ||
| 注解 | 有书目 (第119页) 本书结合建筑学科背景,在锻炼学生几何求解能力的同时,激发学生空间想象力、独立思考能力和创造力。避免枯燥的原理及习题讲解,增加课程中的思考量。 | |
书籍简介
《画法几何与阴影透视:从绘图到设计》将更多关注美术院校背景下的基础、技术和理论的普适性教学。作为美术院校的规划教材,不仅应该把学科最基本、最重要的科学事实、概念、原理、方法、价值观等反映到教材中,还应该反映美术学院的办学定位、培养目标和教学、生源特点。美术院校教学与社会现实关系密切,特别强调对生活现实的体验和直觉感知,因此,规划教材从需要从生活现实中获得灵感和鲜活的素材,需要与实际保持紧密而又生动具体的关系。规划教材内容除了反映基本的专业教学需求外,期待根据美院情况,增加与社会现实紧密相关的应用知识,减少枯燥冗余的知识堆砌。











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