大拱桥--暨南大学学生门户 » 图书馆 » | 08 环境公报 » 聚合物表面分析：X射线光电子谱（XPS）和静态次级离子质谱（SSIMS） [电子资源]
名称 聚合物表面分析：X射线光电子谱（XPS）和静态次级离子质谱（SSIMS） [电子资源]
索引号
分类号
(| 08 环境公报)
作者
出版社 , 2001
ISBN 7502533974
页数 197页
价格
标签
简介
注解 本书深入论述了X射线光电子谱(XPS)和静态次级离子质谱(SSIMS)及其在聚合物材料研究中的应用，内容包括聚合物表面的重要性，X射线光电子谱(XPS)等。
书籍简介

本书深入论述了X射线光电子谱（XPS）和静态次级离子质谱（SSIMS）及其在聚合物材料研究中的应用。在聚合物表面的结构分析与特性研究，特别是解决工业研究中有关问题时，XPS和SSIMS普遍被认为是强有力的技术。随着过去十年仪器分析能力和数据阐释方面的飞速发展，该领域已经发展到有可能将这两方面的信息合并起来的阶段。本书中，作者叙述了XPS和SSIMS技术，并就各自可获得的住处类型分别作了解释。本书也

书籍目录

第一章 引言
1．1 聚合物表面的重要性
1．2 聚合物表面和体相的差异
1．3 添加剂和污染物的影响
1．4 聚合物表面预处理及改性
1．5 与表面特性有关的深度范围
1．6 聚合物表面分析技术的要求
1．7 XPS简要历史
1．8 SIMS简要历史
第二章 X射线光电子谱
2．1 仪器结构
2．2 物理基础
第三章 聚合物的XPS信息