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名称 | 光学投影曝光微纳加工技术 [电子资源] |
| 索引号 | ||
| 分类号 | (| 08 环境公报) |
|
| 作者 | ||
| 出版社 | , 2006 | |
| ISBN | 7563916695 | |
| 页数 | 285页 | |
| 价格 | ||
| 标签 | 工艺、纳米、 | |
| 简介 | ||
| 注解 | ||
书籍简介
本书系统介绍主流光刻技术——光学投影光刻的工作原理、系统组成、应用和发展前景,详细介绍投影光刻物镜、掩模硅片对准、激光定位工件台、分辨力增强技术以及整机集成。
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名称 | 光学投影曝光微纳加工技术 [电子资源] |
| 索引号 | ||
| 分类号 | (| 08 环境公报) |
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| 作者 | ||
| 出版社 | , 2006 | |
| ISBN | 7563916695 | |
| 页数 | 285页 | |
| 价格 | ||
| 标签 | 工艺、纳米、 | |
| 简介 | ||
| 注解 | ||
本书系统介绍主流光刻技术——光学投影光刻的工作原理、系统组成、应用和发展前景,详细介绍投影光刻物镜、掩模硅片对准、激光定位工件台、分辨力增强技术以及整机集成。
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