大拱桥--暨南大学学生门户 » 图书馆 » 真空镀与气相镀法(分类号:TG174.444)(共1本)
分类依据:扩散法、蒸发法、溅射法、离子镀、离子注入等入此。<3版类名:扩散法、蒸发法> | |||
Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing0索取号:TG174.444/E20111.2 作者:Mattox、 D. M.、 出版社:Amsterdam : Elsevier/William Andrew, 2010. | |||
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分类依据:扩散法、蒸发法、溅射法、离子镀、离子注入等入此。<3版类名:扩散法、蒸发法> | |||
Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing0索取号:TG174.444/E20111.2 作者:Mattox、 D. M.、 出版社:Amsterdam : Elsevier/William Andrew, 2010. | |||
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