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名称 | 电镀配合物 : 理论与应用 |
| 索引号 | TQ153/20087 | |
| 分类号 | TQ153 TQ153(电镀工业) TQ15(电化学工业) TQ(化学工业) T(工业技术) |
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| 作者 | 方景礼、 | |
| 出版社 | 北京 : 化学工业出版社, 2008 | |
| ISBN | 978-7-122-01107-7 | |
| 页数 | 727页 : 图 ; 24cm | |
| 价格 | 精装 | |
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| 简介 | ||
| 注解 | 有书目 (第721-725页) 本书应用现代配位化学中最重要的多元配合物的概念,阐明电镀溶液中各种成分的作用原理及其对镀层性的影响,介绍各种水合金属离子的结构及其电化学动力学性质,介绍各种配位剂的性能、介绍以调节金属离子电极反应速度为核心的电镀溶液配方设计的要点。 | |
书籍简介
配位剂(旧称络合剂)是电镀溶液中的基本成分,对电镀过程和电镀层质量有很大影响。本书对配合物的基本原理、配位平衡、配合物的平衡电位及电化学、各种配合物以及电镀溶液的配方设计等进行了系统阐述,对配合物在镀前预处理、各镀种工艺、镀层退除、镀层防变色处理中的应用及强螯合剂废水的处理进行了全面介绍。附录中提供了电镀配合物的各种数据。
本书可供电镀开发和科研工作者参考,可供电镀工艺设计和操作的技术人员参考;也可作为配化学和电镀工艺基础课程参考书。











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