《光场中的原子分子及激光技术》系统论述了原子多光子电离的相关理论基础和研究方法，详细讨论了用光电子成像装置测量光电子角分布来研究原子光电离的特征，重点讲述了如何在实验上获得电子云影像并由此确定原子光离化参数以及研究奇偶宇称跃迁过程的量子干涉。《光场中的原子分子及激光技术》还以相当的篇幅介绍了原子激光光谱和分子红外多光子离解研究的某些专题，详细讨论了无多普勒展宽高分辨激光光谱学的基本原理与研究方法。光学与激光技术方面的内容包括激光测距、风洞流场全息干涉测量以及法布里-珀罗干涉仪（标准具）在光波长与光谱线宽测量、激光纵模选择等方面的原理及应用。最后一章介绍在光学层析成像领域的最新研究成果。并详细阐述了基于激光二维扫描系统和CCD照相机的非接触光学层析成像实验装置及其在光学漫射层析成像和光学荧光层析成像中的应用。
《光场中的原子分子及激光技术》读者范围包括从事原子分子物理、激光光学、光物理、光化学和光学层析成像研究的广大科技工作者，以及相关专业的大学教师、研究生与大学生。