| 名称 | 硅通孔3D集成技术 : 导读版 : 英文 | |
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| 分类号 | (| 08 环境公报) |
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| 作者 | JOHNH.Lau 著、曹立强 导读、秦飞 导读、王启东 导读、 | |
| 出版社 | 北京 : 科学出版社, 2014.01 | |
| ISBN | 978-7-03-039330-2 | |
| 页数 | 500页 ; 26cm | |
| 价格 | CNY130.00 | |
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| 简介 | ||
| 注解 | 本书作者是JohnH.Lau,Ph.D.,P.E.,IEEEFellow,ASMEFellow,ITRIFellow等国际领域著名的专家,在硅基设计方面很权威。随着微处理器发展技术,功耗和摩尔已经限制了其发展。未来的3D设计解决传统平面的有效途径。目前国内的专家都是师承lau,是受其启发开始研究的。本书是作者2013年的最新力作,得到了国内学术界,如李乐民院士、李广军教授等强烈关注。是一部该领域的详尽的著作,同时也是国家十二五、核高基重点突破的领域,具有重要的借鉴价值和意义。 微电子芯片设计研究人员和高校专业本科生、研究生 | |










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