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名称 稀土高K栅介质材料
索引号 TG146.4/20141
分类号 TG146.4
TG146.4(稀有金属及其合金)
TG146(有色金属及其合金)
TG14(金属材料)
TG1(金属学与热处理)
TG(金属学与金属工艺)
T(工业技术)
作者 冀婷、徐闰、朱燕艳、方泽波、
出版社 北京 : 国防工业出版社, 2014
ISBN 978-7-118-09405-3
页数 167页 : 图 ; 21cm
价格 CNY68.00
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简介
注解 封面题责任者还有：徐闰, 朱燕艳, 方泽波 有书目 本书主要介绍稀土高K栅介质材料Er203、Tm203薄膜的生长、结构及其特性，重点介绍了利用分子束外延方法获得超薄高K氧化物薄膜的方法，并运用多种手段对薄膜的生长过程、结构、电学特性及能带排列等进行了研究。本书较为全面、系统地介绍了Er203、Tm2 03作为高K栅介质候选材料的制备及相关物理性质。 适用于从事微电子、材料等领域的工程技术人员，也可供大专院校相关专业的研究生和科研人员参考。