| 名称 | 集成电路制造技术教程 ji cheng dian lu zhi zao ji shu jiao cheng [专著] | |
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| 分类号 | (| 08 环境公报) |
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| 作者 | 李惠军 li hui jun 编著、 | |
| 出版社 | 北京 : 清华大学出版社, 2014.09 | |
| ISBN | 978-7-302-37032-1 | |
| 页数 | 315页 : 图 ; 26cm | |
| 价格 | CNY39.00 | |
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| 简介 | ||
| 注解 | 本书共分为15章。前9章以常规平面工艺为主要教学内容,包括:集成制造技术基础;硅材料及衬底制备;外延生长工艺原理;氧化介质薄膜生长;半导体的高温掺杂;离子注入低温掺杂;薄膜气相淀积工艺;图形光刻工艺原理等。后6章包括:超大规模集成工艺;集成结构测试图形;电路管芯键合封装等。 本书适用于半导体器件及集成电路芯片晶圆制造企业技术人员 | |










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