大拱桥--暨南大学学生门户 » 图书馆 » 半导体薄膜技术(分类号：TN304.055)(共5本)

分类依据：化学气相淀积（CVD）入此。

二氧化钛光催化薄膜

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索取号：TN304.055/20121
作者：崔玉民、张文保、洪文珊、
出版社：北京 : 化学工业出版社, 2011

半导体薄膜技术与物理

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索取号：TN304.055/20091
作者：叶志镇、吕建国、吕斌、
出版社：杭州 : 浙江大学出版社, 2008

Active and passive thin film devices

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索取号：TN304.055/E801
作者：
出版社：London ; New York : Academic Press, 1978.

Thin films : interdiffusion and reactions

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索取号：TN304.055/E802
作者：
出版社：New York : Wiley, 1978.

Insulating films on semiconductors : proceedings of the second international conference, INFOS 81, Erlangen, Fed. Rep. of Germany, April 27-29, 1981

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索取号：TN304.055-53/E901/1981
作者：INFOS 81 (1981 : Erlangen、 Germany)、Schulz、 M. (Max)、Pensl、 G. (Gerhard)、
出版社：Berlin ; New York : Springer-Verlag, 1981.