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名称 | 半导体制造基础 |
| 索引号 | TN305/20081 | |
| 分类号 | TN305 TN305(半导体器件制造工艺及设备) TN30(一般性问题) TN3(半导体技术) TN(无线电电子学、电信技术) T(工业技术) |
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| 作者 | 梅、施敏、代永平、 | |
| 出版社 | 北京 : 人民邮电出版社, 2007 | |
| ISBN | 978-7-115-16639-5 | |
| 页数 | 268页 : 图 ; 24cm | |
| 价格 | CNY45.00 | |
| 标签 | 半导体、施敏、教材、工艺、微电子、半导体制造、物理学、核心必读!、 | |
| 简介 | ||
| 注解 | 由Wiley Publishing, Inc.授权人民邮电出版社出版 据John Wiley & Sons, Inc.2003年英文版译出 责任者规范汉译姓: 梅(May) 有书目和索引 | |
书籍简介
《半导体制造基础》在简要介绍半导体制造流程的基础上,着力从理论和实践两个方面对晶体生长、硅氧化、光刻、刻蚀、扩散、离子注入和薄膜淀积等主要制备步骤进行详细探讨。《半导体制造基础》所有内容的讲解都结合了计算机仿真和模拟工具,并将工艺模拟作为问题分析与讨论的工具。











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