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名称 | 电子束曝光微纳加工技术 |
| 索引号 | TN305.7/20051 | |
| 分类号 | TN305.7 TN305.7(光刻、掩膜) TN305(半导体器件制造工艺及设备) TN30(一般性问题) TN3(半导体技术) TN(无线电电子学、电信技术) T(工业技术) |
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| 作者 | 顾文琪、王理明、 | |
| 出版社 | 北京 : 北京工业大学出版社, 2004 | |
| ISBN | 7-5639-1300-9 | |
| 页数 | 310页 : 图 ; 26cm | |
| 价格 | CNY50.00 | |
| 标签 | 光学、 | |
| 简介 | ||
| 注解 | 有书目・ 本书系统地介绍了电子束曝光技术的发展和原理、系统的组成和分类、应用和发展前景，同时，详细介绍了多种先进的电子束曝光机的性能和技术指标，电子光学柱、精密工件台等分部件和掩模版制作、电子束直刻等关键技术・ | |
书籍简介
电子束曝光微纳加工技术，ISBN：9787563913008，作者：顾文琪编
粤公网安备 44030602003680号