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名称 集成电路制造技术 : 原理与工艺
索引号 TN405/20111
分类号 TN405
TN405(制造工艺)
TN40(一般性问题)
TN4(微电子学、集成电路(IC))
TN(无线电电子学、电信技术)
T(工业技术)
作者 王蔚、田丽、任明远、
出版社 北京 : 电子工业出版社, 2010
ISBN 978-7-121-11751-0
页数 13, 395页 : 图 ; 26cm
价格 CNY39.80
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简介
注解 有书目 (第394-395页) 本书介绍了硅集成电路制造当前普遍采用的工艺技术,全书分5个单元。第1单元介绍硅衬底,主要介绍硅单晶的结构特点,单晶硅锭的拉制及硅片的制造工艺及相关理论;第2-5单元介绍硅芯片制造基本单项工艺的原理、方法、设各,以及所依托的技术基础及发展趋势。
书籍简介

《集成电路制造技术:原理与工艺》是哈尔滨工业大学“国家集成电路人才培养基地”教学建设成果,系统地介绍了硅集成电路制造当前普遍采用的工艺技术,全书分5个单元。第1单元介绍硅衬底,主要介绍硅单晶的结构特点,单晶硅锭的拉制及硅片(包含体硅片和外延硅片)的制造工艺及相关理论。第2~5单元介绍硅芯片制造基本单项工艺(氧化与掺杂、薄膜制备、光刻、工艺集成与封装测试)的原理、方法、设备,以及所依托的技术基础及发展趋势。附录A介绍以制作双极型晶体管为例的微电子生产实习,双极型晶体管的全部工艺步骤与检测技术;附录B介绍工艺模拟知识和SUPREM软件。附录部分可帮助学生从理论走向生产实践,对微电子产品制造技术的原理与工艺全过程有更深入的了解。
《集成电路制造技术:原理与工艺》可作为普通高校电子科学与技术、微电子学与固体电子学、微电子技术、集成电路设计及集成系统等专业的专业课教材,也可作为集成电路芯片制造企业工程技术人员的参考书。