大拱桥--暨南大学学生门户 » 图书馆 » 半导体器件制造工艺及设备(分类号：TN305)(共33本)

Semiconductor manufacturing technology = 半导体制造技术

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索取号：TN305/E20061
作者：Quirk、 Michael、 1953-、Serda、 Julian.、
出版社：Beijing : Publishing House of Electronics Industry : Pearson Education Asia Ltd., 2006.

Heavily doped semiconductors

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索取号：TN305.3/E701
作者：Fistul§、 V. I. (Viktor Il§ich)、 1927-、
出版社：New York : Plenum Press, 1969.

The transistor and diode data book for design engineers

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索取号：TN305-62/E601
作者：Texas Instruments Incorporated.、Texas Instruments Incorporated. Power semiconductor data book for design engineers.、Texas Instruments Incorporated. Optoelectronics data book for design engineers.、
出版社：Dallas, Tex. : Texas Instrument, Inc., [n.d.].

Semiconductor device technology

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索取号：TN305/E902
作者：Goodge、 Malcolm E.、
出版社：Indianapolis, Ind. : H.W. Sams, 1983.

Ion implantation of semiconductors

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索取号：TN305.3/E801
作者：Carter、 G. (George)、 1934-、Grant、 W. A. (William Alexander)、 1941-、
出版社：London : E. Arnold, 1976.

Plasma etching in semiconductor fabrication

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索取号：TN305/E901
作者：Morgan、 Russ A.、 1950-、
出版社：Amsterdam ; New York : Elsevier, 1985.

Fundamentals of semiconductor devices

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索取号：TN305/E801
作者：Yang、 Edward S.、
出版社：London New York : McGraw-Hill, 1978.

Ion implantation

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索取号：TN305.2/E801
作者：International Conference on Ion Implantation in Semiconductors、 1st、 Thousand Oaks、 Calif.、 1970.、Eisen、 Fred H.、 ed.、Chadderton、 Lewis T.、 ed.、
出版社：London, New York, Gordon and Breach Science Publishers [1971]

Ion implantation

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索取号：TN305.3/E803
作者：
出版社：London Amsterdam, North-Holland Pub. Co.; New York, American Elsevier, 1973.

Ion implantation, sputtering and their applications

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索取号：TN305.3/E802
作者：Townsend、 P. D. (Peter David)、Kelly、 J. C. (John Clive)、 joint author.、Hartley、 N. E. W.、 joint author.、
出版社：London ; New York : Academic Press, 1976.

Impurity doping processes in silicon

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索取号：TN305.3/E901
作者：
出版社：Amsterdam ; New York : North-Holland Pub. Co. ; New York, N.Y. : Sole distributors for the USA and Canada, Elsevier North-Holland, 1981.

Ion implantation in semiconductors : science and technology : [proceedings of the fourth International Conference on Ion Implantation in Semiconductors and Other Materials, held at the Osaka Chamber of Commerce and Industry, August 1974]

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索取号：TN305.3-53/E801/4
作者：International Conference on Ion Implantation in Semiconductors and Other Materials (4th : 1974 : Osaka)、Namba、 Susumu、 1928-、
出版社：New York : Plenum Press, [1975]

Ion Implantation in semiconductors, 1976

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索取号：TN305.3-53/E801/5
作者：International Conference on Ion Implantation in Semiconductors and Other Materials (5th : 1976 : Boulder、 Colo.)、Chernow、 Fred.、Borders、 James A.、Brice、 David K.、
出版社：New York : Plenum Press, c1977.

Developments in semiconductor microlithography III : April 10-11, 1978, San Jose, California

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索取号：TN305.7-53/E801/3
作者：
出版社：Bellingham, Wash. : The Society, 1978.

半导体制造系统调度

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索取号：TN305/20071
作者：吴启迪、乔非、李莉、
出版社：北京 : 电子工业出版社, 2006

硅单晶抛光片的加工技术

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索取号：TN305.2/20061
作者：张厥宗、
出版社：北京 : 化学工业出版社, 2005